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3D堆疊內(nèi)存芯片SRAM與DRAM封裝技術的特性

2025-10-10 09:47:14

SRAM靜態(tài)隨機存取存儲器通常直接集成在計算芯片內(nèi)部,以實現(xiàn)高速數(shù)據(jù)訪問,但其容量往往受限。近年來,通過3D堆疊技術的引入,SRAM在保持高集成度的同時實現(xiàn)了容量的有效提升。動態(tài)隨機存取存儲器(DRAM)則在封裝形式上具有更豐富的方案。從歷史發(fā)展來看,DRAM普遍采用雙列直插內(nèi)存模塊(DIMMs)進行封裝,該形式支持模塊化擴展,為用戶提供了靈活的配置選擇。
 
如今,DRAM封裝技術更加注重低功耗和高帶寬的性能需求。例如,低功耗雙倍數(shù)據(jù)速率內(nèi)存(LPDDR)在保持相對較低功耗的同時,實現(xiàn)了較高的傳輸速率——其每引腳帶寬可達10 Gbps,顯著高于傳統(tǒng)DDR內(nèi)存的5.6 Gbps。然而,LPDDR通常需直接焊接到主板上,因此在獲得性能與能效提升的同時,犧牲了類似DDR DIMMs的可插拔與可重構能力。
 
高帶寬內(nèi)存(HBM)則通過多個存儲裸片的3D堆疊和硅中介層(Interposer)互連,進一步提升了帶寬性能。但其制造工藝復雜,對技術的要求極高,導致生產(chǎn)良率偏低。因此,HBM的成本遠高于DDR DRAM,同時受制于物理和工藝限制,其單封裝容量仍難以實現(xiàn)太字節(jié)(TB)級別,使得超大容量片上內(nèi)存配置在目前仍不具可行性。
 
這些封裝技術的創(chuàng)新為不同應用場景提供了多樣的性能與成本權衡選擇。而在片上內(nèi)存方面,增益單元嵌入式DRAM(GC-eDRAM)結合了DRAM的高密度特性與SRAM的易于集成優(yōu)勢,僅需在數(shù)據(jù)保留時間方面作出一定妥協(xié),為高集成度與帶寬需求的嵌入式系統(tǒng)提供了一種有潛力的解決方案。
 
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本文關鍵詞:SRAM,DRAM
 

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